Refraktärmetalle für Halbleiterfertigung & LED
Beim Aufbringen dünner Schichten und beim Züchten von Kristallen entstehen Prozessbedingungen – hohe Temperaturen, hochreines Vakuum, aggressive Plasmen – unter denen Standardmetalle verdampfen, kontaminieren oder ihre Reinheit nicht halten. Refraktärmetalle liefern die thermische Stabilität bei der Reinheit, die Halbleiterprozesse verlangen.
Welcher Werkstoff für welche Funktion
Molybdän
Hohe Wärmeleitfähigkeit und Temperaturwechselbeständigkeit, sehr gut zerspanbar in hoher Reinheit: Heizer, Hitzeschilde, Trägerplatten (Susceptoren) und Sputtertargets.
Wolfram
Höchster Schmelzpunkt, extrem geringe Verdampfungsrate auch bei Prozesstemperatur: langlebige Sputtertargets und Tiegel für die Kristallzüchtung.
Tantal
Bildet eine stabile, dichte Oxidschicht und wirkt als Diffusionsbarriere: Targets für Barriereschichten in Cu-Interconnects.
Niob
Hohe erreichbare Reinheit, supraleitende Eigenschaften: Spezialtargets für supraleitende und optische Schichten.
Keramik (Bornitrid, AlN)
Elektrisch isolierend bei gleichzeitig hoher thermischer Leitfähigkeit: Substrate und Isolatoren direkt im Hochtemperaturbereich der Anlage.
Bauteile aus dem Arbeitsalltag
- MOCVD-Heizer für GaN-/LED-Fertigung
- Sputtertargets für PVD-Beschichtungsanlagen
- Susceptoren für Wafer-Prozesse
- Diffusionsbarrieren in Cu-Interconnects
- Tiegel für Saphir- und SiC-Kristallzüchtung
- AlN-Substrate für Leistungselektronik
Warum Refracore. Reinheitsgrad, Korngröße und Zielmaterial entscheiden über die Prozessstabilität – wir kennen die Spezifikationsunterschiede zwischen Standard- und Hochreinheits-Targets und beraten entsprechend. Lieferung als Rohmaterial oder fertig bearbeitetes Target, mit Zertifikat nach Bedarf.
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